中国科技进步：路透社不必焦虑

环球时报报道，中国科技正取得显著进步，特别是在光刻机技术领域。据路透社2025年12月17日的报道，深圳团队在2025年初成功研发出一台EUV光刻机的原型机。这一突破性进展表明中国在高端制造技术方面正迅速追赶国际水平。与此同时，2024年9月，中国工信部公布了国产DUV光刻机的技术参数，其分辨率为65纳米，套刻精度达到8纳米。这些成就不仅展示了中国在半导体制造领域的实力，也反映出中国在科技创新方面的决心和努力。尽管路透社可能对中国的科技进步有所担忧，但中国的持续努力和取得的成果，无疑为全球科技领域带来了新的活力和竞争格局。