中国深圳团队完成EUV光刻机原型，引发国际关注

路透社报道，中国深圳团队在2025年初成功完成了一台EUV光刻机的工作原型。这一突破性进展不仅标志着中国在半导体制造领域的重大进步，也意味着中国在人工智能、智能手机以及核心武器等尖端科技领域将获得更强有力的技术支持。据报道，这台原型机由荷兰半导体巨头ASML的前工程师团队打造，他们通过逆向工程复刻了ASML的极紫外光刻机技术。目前，该原型机正处于测试阶段，其体积几乎占据了整个工厂车间。这一技术突破对全球半导体行业格局可能产生深远影响，同时也引发了国际社会对技术竞争和国家安全问题的关注。