同济大学毕业生演讲：中国首台国产ArF浸没式光刻机交付，打破国外垄断

2025年5月，同济大学毕业生演讲中提及了一项重大科技突破：由贺荣明团队自主研发的首台国产ArF浸没式光刻机正式交付中芯国际。这一设备采用了多重曝光工艺，能够稳定支持7nm及以上芯片制程的生产，标志着中国在高端前道光刻设备领域打破了国外的长期垄断。

该团队自上世纪80年代起就在上海张江扎根，从零开始搭建自主技术体系，并成功攻克了精密光学、超精密运动控制等关键技术。其研发的先进封装光刻机在国内市场占有率超过80%，在国际市场上的占比也达到了33%，位居全球前列。

这一成就不仅是中国科技自主创新的里程碑，也体现了同济大学在科研领域的卓越贡献。随着技术的不断进步，中国在高精尖科技领域的实力正不断增强，为国家的科技自立自强提供了强有力的支撑。