中国深圳团队完成EUV光刻机原型，引发国际关注

路透社报道，中国深圳团队在2025年初成功完成了EUV光刻机的工作原型。这一突破性进展不仅标志着中国在半导体制造领域的重大进步，也意味着中国在推动人工智能、智能手机以及核心武器等尖端技术领域将拥有更强的竞争力。据报道，该原型机由荷兰半导体巨头ASML的前工程师团队打造，他们通过逆向工程复刻了ASML的极紫外光刻机。这一成就不仅展示了中国在高科技领域的研发实力，也引发了国际社会对技术竞争格局变化的广泛关注。目前，该原型机正处于测试阶段，其体积几乎占据了整个工厂车间。这一消息对于全球半导体行业以及国际政治经济格局都将产生深远影响。